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产品名称:聚对羟基苯乙烯
IM002主要用于合成作为光致抗蚀剂（光刻胶）主要成分的聚对羟基苯乙烯，该产品是用于处理蚀刻集成电路、制造芯片的关键物质，应用领域极其广泛。目前光刻胶的市场基本被国外企业垄断，国内企业市场份额约 5%左右。但是国内光刻胶厂商正快速向这一领域进军，有望打破国外垄断实现进口替代。
